INA轴承光滑体系增加冲突三种措施

INA轴承光滑体系增加冲突三种措施

       INA轴承光滑体系增加冲突的三种措施：

       1.INA轴承光滑会带来切入式冲突。常见轴承光滑在滚道内基本会充分填充，轴承运转是只需要很少一部分光滑剂就会构成光滑膜，大部分光滑剂会被滚动体挤到滚道边缘。当无效光滑剂回流到滚道底部时，与滚动体之间就会构成一定的切入冲突。

       2.INA轴承光滑体系回填贫油，也会增加轴承冲突系数。当轴承转速过快或光滑剂粘度过高时，滚动体压过滚道大部分光滑剂会被挤出，来不急回填到与轴承滚动体接触的部位。此时，轴承就会出现贫油运转，冲突会相应增大。轴承回填贫油现象常出现在油气光滑、喷油光滑、低油位油浴和脂光滑的状况。

       3.在INA轴承油浴光滑中，轴承部分被浸没，或在某些特殊的状况下，轴承被彻底浸没。在这些状况下，储油池的大小、几何结构和油位对轴承的冲突力矩会有实质的影响。

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